فناوری‌های مواد و ساخت:

مواد جدید پرکننده SiC/Al4SiC4

بر اساس آخرین تحقیقات، لایه اتصال SiC/Al4SiC4 برای اتصال یکپارچه SiC ، با استفاده از یک تکنیک پخت وابسته به میدان الکتریکی پیشنهاد شده است.

بر اساس آخرین تحقیقات، لایه اتصال SiC/Al4SiC4 با تشکیل درجا، برای اتصال یکپارچه SiC ، با استفاده از یک تکنیک پخت وابسته به میدان الکتریکی پیشنهاد شده است.

برای این منظور، یک پودر چند فازی Al4C3/SiC/Al4SiC4 ، به عنوان ماده اتصال اولیه برای به دست آوردن لایه واکنشی در محل SiC/Al4SiC4، از طریق واکنش های بین سطحی مناسب استفاده شده است.

نتایج نشان داده است از این طریق استحکام خمشی نمونه تولید شده بسیار بالاتر از استحکام ماتریس اتصال نیافته SiC می باشد.

نشان داده شده است زمانی یک اتصال کامل و بی نقص زمانی به دست می آید که Al4C3 به طور کامل به Al4SiC4تبدیل شده و نهایتا یک لایه اتصال کاملا متراکم  Al4SiC4 استحکام یابد. در واقع یکپارچگی لایه اتصال با زمینه SiC ، با تشکیل مقدار بالایی از فاز مایع بهبود می یابد.

لایه اتصال فرض شده SiC/Al4SiC4 ، با تطابق حرارتی خوب با ماتریس SiC ، پتانسیل زیادی را برای استفاده در کامپوزیت های زمینه سرامیکی بر پایه SiC نشان می دهد.

منبع:

https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0955221920305963

کلمات کلیدی
//isti.ir/ZYJp